半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
该项目的背景
该企业专注研发半导体材料用高纯氟化氢和六氟化钨,污水氟含量最高且有效成分冗杂。原先的补救加工过程使用效果不稳定可靠,氟化物废气排放有时重金属超标。项目流程投资费用2五百万元施工主要补救装置,设计方案补救效果500吨/天。
焦化废水的成分及来历
工业废气主要来源分娩机器设备家电清洗和工业废气洗洁:
氟亚铁离子含量:1500-3500mg/L
含硝酸钠根铝离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等五金种元素
清理的工艺注意事项
争对高氧化还原电位特质,主要采用"采和+三级奠定+膜治理"工序:
工业废水处理获得池:分为获得有差异氧浓度工业废水处理
中合表现池:分时期添加氢防硫化钠和氢防硫化钙,操纵进而pH至7.5-8.
水解酸化池反映池:添加PAC和PAM增进沉垫实际效果
斜管结晶池:科学规范固液隔离
多导电介质滤水器:祛除狗狗细小科粒
反融于体系:强度脱盐和除氟
生活污水精浓烘干处理系统性:离心式烘干处理后生活污水清运工程专业应急处置
网络监测数据操作系统:及时风控氟正离子溶度和pH值
终极功效
办理系統程序运行数剧:
存水氟正离子均匀浓硫酸浓度:2800mg/L
出水出水氟正离子质量浓度:3.2mg/L(大概)
氟剔除率:99.9%以内
水循环率:起到65%
设备自行化系数高,改变污废水 操作成本投入变低30%,年出售氟化钙副货品约400吨。