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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆产生厂隶属于华中中北部,关键工作8英尺半导体技术晶圆,每日废液的排股票放量约800吨。考虑到工作整个过程中选择许多氢佛酸通过晶圆蚀刻,会造成废液中氟化物渗透压高至200-300mg/L,远超国的排放量标淮(10mg/L之下)。 化工废水基本成分及源于 焦化废水基本源于四个各个环节: 晶圆蚀刻多种工序 :含高氨水浓度氟化物(HF)、硝酸铵及一些天价属 电学机械厂增加光泽(CMP)废水处理工艺 :含奈米级硅顆粒、有机会络合剂 设施清洁工业废水 :含异丙醇、氯离子等有机的物 处里技艺具体步骤 适用"物理结晶+混泥土结晶+进一步活性炭过滤"3级进行处理控制系统: 一层除理 :加药氯化钙和氢氧化物钙,变成氟化钙析出,氟化物我们要除率达85% 两级加工处理 :增添PAC(配位聚铝)和PAM(聚乙烯酰胺),彻底清除电解质溶液态环境破坏物 二级操作 :依据多物料油烟净化器器和生物炭吸附物,冒水氟化物酸度可靠在8mg/L下面 至关重要产品包扩:pH自然设定系统的、斜管积淀池、板框厢式压滤机(污泥干化脱水烘干)。 进而治疗效果 项目流程使用三年期检测数据库现示: 氟化物一般溶度:7.2mg/L(达不到国家规则) COD除掉率:92% 飞灰含水分率:≤65% 年二手回收氟化钙副企业产品约150吨,完成成本化进行

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