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高硅废水怎么处理方法|高硅废水处理案例

品牌游戏 背景 西安某半导体行业厂研发具体步骤中此外引起高硅污水(SiO₂ 500-800mg/L)和含氟污水(F⁻ 200-300mg/L)。两种类型污水混后易于产生氟硅酸悬浊液,中国道德文化学沉积法得以可靠未达标。内容规定要求同步软件的还原硅和氟(进行排放准则:SiO₂≤30mg/L,F⁻≤10mg/L)。 电镀废水的成分及来源于 大部分含量 :硅酸氢钠(NaHSiO₃)、氟化铵(NH₄F)、异丙醇 来源地 :晶圆刻蚀生活污水、CMP打磨生活污水、机械设备情况呢水 处里生产技术流程图 信息化沉垫价段 : 多级想法池 : 首个级污泥脱水Ca(OH)₂添加CaF₂和CaSiO₃放置; 二、级添加PAC(配位聚氯化铝)提升二沉池。 固液分离出来一阶段 : 反渗透装置系统软件 :利用0.02μm孔的直径膜构件挤占悬浊液硅和微细放置物。 深层次脱氟阶段性 : 抗逆性阳极三氧化二铝吸咐塔 :稳定度氟化合物溶解消除。 结果英文的效果 冒水SiO₂≤25mg/L,F⁻≤8mg/L,远更为重要部委原则。 反渗透膜软件通量动态平衡在15LMH,无机化学擦拭生长期延长时间至60天。 废水经压滤后含水量率<65%,可按基本危险废物正确处理。

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