某半导体器件制造厂的企业因晶圆刷洗制作工艺引发含氨废液，发电量200吨/天。废液中除挥发酚外还具有刺激性氟化物和微量分析天价属，处置的难度大。本地尾气排放条件条件条件挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水含量及源于 晶圆除垢废水处理（大部分来原）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工艺废气：含少量铜、镍等巨资属，pH值起伏较大大 CMP粉磨废污水：含硅颗粒剂及化学需氧量 正确处理加工制作工艺 工作流程 利用"电学乳浊液+膜脱离+折点氯化"组合构成加工过程： 预清理 ：加药系统CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 超滤膜设计 ：洗去0.01μm这科粒物 反渗透装置性和精炼 ：将化学需氧量提液至1000mg/L超过 折点氯化 ：准确设定氯添加量，将氟化物转为为氦气 铁离子互相交换 ：保护巨资属达到标准 以后体验 氧化还原电位安稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属水平不高于检则限 水使用率达75% 废水存在量少40%