杭州某半导集成块打造厂，晶圆粗加工过程中 中呈现含硅、氟的特出工业废渣，定制整理范围1200吨/日。工业废渣因素僵化，包含的纳米级级硅粉末及氢氧化钠，一般整理具体方法难于考核标准。 工业废水因素及源 关键污染问题物 ：氢氧化铁硅（100-500nm粒级）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 原因多种工序 ：晶圆刻蚀废气（45%）、CMP检查是否物理抛光剂废气（40%）、仪器清洗道路水（15%） 清理生产技术过程 不断创新运用"化学式乳浊液+珍禽膜分離"技术设备自驾路线： 钙盐放置 ：加药系统氯化钙快速清理氟阳离子（自动生成CaF2沉积） 斜管沉淀池作用 ：复合型斜管沉淀池剂控制电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm内径膜截流微细粒子 反融合整体 ：脱盐率>98%，回收分类处理率75% 减压蒸馏沉淀 ：浓水段变现氟化物零摆放 终结成效 氟化物质量浓度：<8mg/L（超过國家第一标准10mg/L） 硅分子量：<5mg/L 水物资循环率：70%使用于蒸发塔补湿 危废处理减轻：蒸发器食物残渣量较传统性工艺设备下降60%